拟从事的研究内容或研究计划 |
1、开展超精密平面光栅读数头研制、高速高分辨率电子相位卡研制、平面光栅位置测量系统精度理论研究;
2、开展光学自动对准/波前测量/周期测量/条纹锁定等分系统的研制、扫描干涉光刻系统精度理论研究。 |
1、研究超精密双工件台的控制算法、控制策略、实时控制系统,突破关键技术,为产品控制系统设计和测试设计提供支撑;
2
、综合应用过驱动/过测量、高阶动力学特性辨识/多入多出系统辨识、扰动建模和辨识方法等技术优化超精密双工件台的最终性能。 |
1、负责光刻机的超精密双工件台的系统动力学、流场-磁场-热场等多场耦合分析;
2、开展高性能电磁驱动和超精密运动控制的研究,突破关键技术,为产品设计提供支持。 |
招聘要求 |
1、两年内获得或近期即将获得光学工程/精密机械/应用物理/自动化/电子/控制工程等相关领域的博士学位,年龄不超过35周岁;
2、具有强烈的科学研究兴趣,良好的专业素质,以及较强的实验设计和动手能力; 3、具备较强的语言表达和沟通能力,责任心强,工作踏实主动,团队合作精神佳;
4、具有光机电一体化多学科背景者优先;
5、拥有超精密光学干涉测量专业知识和研发经历者优先。 |
1、两年内获得或近期即将获得自动化、机械电子、数学、物理学、计算机及控制工程等相关领域的博士学位,年龄不超过35周岁;
2、了解嵌入式实时系统、控制系统软硬件实现的基本框架;具备控制算法实现和调试能力;有运动台/机器人/精密机械控制系统设计、建模、调试经验;
3
、具有强烈的科学研究兴趣,良好的专业素质,以及较强的实验设计和动手能力;
4、具备较强的语言表达和沟通能力,责任心强,工作踏实主动,团队合作精神佳。 |
1、两年内获得或近期即将获得机械工程/电气工程/力学相关领域的博士学位,年龄不超过35周岁;
2、具有强烈的科学研究兴趣,良好的专业素质,以及较强的实验设计和动手能力;
3、具备较强的语言表达和沟通能力,责任心强,工作踏实主动,团队合作精神佳。 |